反滲透水處理設(shè)備(膜分離)技術(shù)的應(yīng)用使反滲透超純水設(shè)備從傳統(tǒng)的陽(yáng)離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復(fù)合離子交換器得到了一次進(jìn)步。

　　反滲透超純水設(shè)備是采用專(zhuān)用RO技術(shù)設(shè)計(jì)，關(guān)鍵部件、設(shè)備采用進(jìn)口名牌產(chǎn)品，工藝先進(jìn)，質(zhì)量可靠，可擴(kuò)展性強(qiáng)，結(jié)構(gòu)合理占地小，水利用率高，能耗低，全自動(dòng)化運(yùn)行，操作維護(hù)簡(jiǎn)單。水回收率一般可達(dá)75%以上，脫鹽率>98%。產(chǎn)水量隨進(jìn)水溫度下降和反滲透膜老化或受污染有一定變化。

　　反滲透超純水設(shè)備多應(yīng)用于電子行業(yè)、核電行業(yè)、五金行業(yè)、電鍍行業(yè)、光學(xué)、科研

　　反滲透設(shè)備具有以下優(yōu)點(diǎn):

　　1 、零部件均采用知名廠家，質(zhì)量可靠。

　　2 、整體化程度高，易于擴(kuò)展，增加膜數(shù)量即可增加處理量。

　　3 、自動(dòng)化程度高，遇故障立即自停，具有自動(dòng)保護(hù)功能。

　　4 、脫鹽率高，可達(dá) 98 %以上。

　　5 、能耗低，運(yùn)行成本低。

　　6 、水利用率高，回收率達(dá)到 50 - 75 %。

　　7 、結(jié)構(gòu)合理，占地面積少。

　　8 、先進(jìn)的膜保護(hù)系統(tǒng)，在設(shè)備關(guān)機(jī)時(shí)，淡化水可自動(dòng)將膜表面的污染物沖洗干凈，延長(zhǎng)膜壽命。

　　9 、系統(tǒng)無(wú)易損部件，無(wú)需大量維修，運(yùn)行長(zhǎng)期有效。

　　反滲透超純水設(shè)備典型工藝流程為:

　　1: 預(yù)處理-反滲透-純化水箱-離子交換器-紫外燈-純水泵-用水點(diǎn)

　　2: 預(yù)處理-一級(jí)反滲透-二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點(diǎn)

　　3: 預(yù)處理-反滲透-中間水箱-中間水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點(diǎn)

　　4: 預(yù)處理→紫外線殺菌裝置→一級(jí)RO裝置→二級(jí)RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點(diǎn)

　　水質(zhì)符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí))

　　設(shè)備參數(shù)

　　1、進(jìn)水水質(zhì):市政自來(lái)水，電導(dǎo)率≤500μs/cm

　　2、產(chǎn)生水質(zhì): 一級(jí)反滲透系統(tǒng)處理后，產(chǎn)水電導(dǎo)率<10μS/cm(以在線儀表監(jiān)測(cè)為準(zhǔn))二級(jí)反滲透系統(tǒng)處理后，產(chǎn)水電導(dǎo)率<2μS/cm (以在線儀表監(jiān)測(cè)為準(zhǔn))混床產(chǎn)生電阻率:≥ 10MΩ·CMEDI系統(tǒng)產(chǎn)水電阻率:≥15MΩ·CM核能混床產(chǎn)水電阻率:≥18MΩ·CM

　　3、相對(duì)濕度:≤80%、無(wú)強(qiáng)酸、強(qiáng)堿等 揮發(fā)性氣體，無(wú)強(qiáng)電磁干擾

　　4、安裝場(chǎng)地要求:地面設(shè)有防水層，地漏，保持排水通暢。

　　5、控制方式:自動(dòng)、手動(dòng)、全自動(dòng)PLC控制系統(tǒng)

　　6、設(shè)備系統(tǒng)脫鹽率:≥99.5%

　　7、工作方式:可24小時(shí)連續(xù)工作

　　8、反滲透設(shè)備回收率:50%-75%

　　設(shè)備按小時(shí)產(chǎn)水量m3/h(25℃水溫計(jì)，以下同)分三類(lèi):

　　a) 小型設(shè)備 日產(chǎn)水量≤3m3/h

　　b) 中型設(shè)備 日產(chǎn)水量4~20 m3/h

　　c) 大型設(shè)備 日產(chǎn)水量≥20m3/h